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第209页(2 / 2)

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雷客比林成建还小声轻柔:“比asmleuv的14nm还精确了0.5nm?”

杜颂捂着心脏,喃喃说?道:“不是吧……我?整天研究的就是这?么牛逼的玩意?”

助理姑娘掐得更?狠了,但杜颂激动的灵魂和兴奋的神经可以抚平身?体?的疼痛。

“啊,”盛明安下意识看向陈惊璆:“你们都有异议吗?”

陈惊璆惊讶过后便是一笑:“没有异议。他们惊喜过头了。”

盛明安又?看向林成建等人,谁知他们面面相觑,陷入沉默,一秒、两秒、三秒……“啊啊啊啊——!!!”

猛然爆发的尖叫声继续震破实验室的天花板,要不是固化玻璃隔绝了噪声污染不会影响到实验室设备,热爱实验室设备的盛明安就该拉下脸,而负责掏钱买设备的陈惊璆应该会冷脸赶人出去了。

但无伤大雅的此刻,他们纵容每一个团队成员尽情?放纵无以言表的兴奋和激动。

第70章山巍[02]挽狂澜!

光源系统设备验收阶段圆满完成,接下来就是高阶光刻机的组装。

除了光源系统、双工作台系统和光学系统,余下零件所需还有更精确的镜头组、反射镜,以及arf光刻胶等,国内暂时还没有研发出来。

但这都不是问题。

因为最艰难的光源系统和双工作台系统已经被圆满攻破,剩下的arf光刻胶等技术要求很高,可相对来说,难度系数不是特别大。

林成建也很兴奋,他勉强保持冷静,对盛明安和陈惊璆说:“光源系统设备验收通过,ic设计部正在攻破20nm以下的鳍式场效应晶体管工艺,尽量保证我们能够生?产出13.5nm工艺以上更高精度的芯片。”

鳍式场效应晶体管是一种防止因高精度工艺而导致晶体管失去开关作用而发明的工艺,采用3d立体?晶体管架构,突破芯片晶体管的22nm工艺极限,不直接作用于光刻机,而是ic设计工程师必须掌握的一项核心技术。

陈惊璆:“那就交给你了。”

“放心,我会尽快解决这个技术难点。”林成建现在充满信心,又对盛明安说:“保险起见,光源系统设备最好赶紧申请专利保护。”

盛明安:“我知道的。”

光源系统设备虽有多人团队协作发明,但真?正突破该关键性技术的人是盛明安,所以他是申请专利的不二人选。

程院长凝视光源系统设备,长久无言。

直到林成建在盛明安身边提议专利申请,他才回?过神来,深深呼出胸中那口沉淀多年的郁气,心情畅快,问盛明安:“你打算申请提前毕业?”

盛明安惊讶:“您知道?”

“你是张教授的得意门生,他经常在外面吹嘘你,申市光机所谁不知道?”程院长一想起张群芳炫耀的嘴脸就想翻白眼,他说:“如果你想申请提前毕业,光源系统被攻破这份科研成果的确能让科大酌情考量,同意你的申请。不过同意是一方面,能不能通过考试又是另一方面的事。”

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